I prudutti

Avemu studiatu un elettrodu di film nanocarbonu dopatu di nitrogenu cù una cuncentrazione di nitrogenu di menu di 10,9 at% furmatu da u metudu di sputtering magnetron unbalanced (UBM).U cuntenutu di sp (3) in u film di nanocarbonu di sputtering UBM dopatu di nitrogenu (film N-UBM) aumenta ligeramente cù a cuncentrazione di nitrogenu crescente.U ligame di grafite chì cuntene nitrogenu diminuisce è u ligame di piridina aumenta cù l'aumentu di a cuncentrazione di nitrogenu.A film N-UBM hà una superficia assai liscia cù una rugosità media di 0,1 à 0,3 nm, chì hè quasi indipendente da a cuncentrazione di nitrogenu.L'elettrodu di film N-UBM mostra una finestra potenziale più larga (4,1 V) cà un elettrodu di film UBM puro (3,9 V) per via di u so ligeru aumentu di u cuntenutu sp (3).L'attività elettrocatalitica aumenta cù a cuncentrazione di nitrogenu crescente, chì suggerenu chì l'elettroattività hè massima quandu a cuncentrazione di nitrogenu hè di circa 10,9 at%, chì hè cunfirmata da a separazione massima di Fe (CN) 6 (4-).I putenziali di riduzzione di perossu di l'idrogenu (H2O2) à l'elettrodu di film N-UBM hà cambiatu circa 0,1 V, è u piccu currente di H2O2 hà aumentatu circa 4 volte.